dUV浸润式光刻机,大致可以分成六个模组。
掩膜版传送模组、晶圆传送模组、照明模组、投影物镜模组、浸润式光刻模组、双晶圆平台模组。
这六个模组当中,难度最大的就是浸润式光刻模组。
这个模组,也是浸润式光刻机名字的由来。
聊到浸润式光刻模组,那就不得不聊一下投影物镜模组与光刻机的原理。
简单概括一下,光刻机的原理就是利用紫外光,在晶圆上进行雕刻。
投影物镜的作用,就是将照明模组发射出的紫外光收进物镜内,并聚焦成像在晶圆上。
一般来说,由瑞利公式可以得出结论。
投影物镜是越粗,最后制造出来的芯片性能就会更高。
但是投影物镜要是太粗,又会发生全反射现象,紫外光就无法在晶圆上聚焦了。
换而言之,物镜不够粗,芯片性能就不行。
物镜太粗,直接造不出来了。
这个时候,有人提出了一个天才般的想法。
在晶圆上滴一滴水。
水折射率更高,更不容易发生全反射现象。
这样一来物镜就能做的更粗,造出的芯片就更强。
这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。
将晶圆用水浸润了嘛。
但这又面临了一个巨大的问题。
晶圆成像时温度会升高,需要流动的水来进行降温。
但在成像过程中,又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑,不能有扰动。
出现扰动会怎么样?
晶圆会报废。
所以这“水”,其实不是一般的水。
这个难题,一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。
腾达研发中心虽有进度,但是进度很慢。
当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点时,也有提到这个问题衍生出来的子问题。
可是现在,系统把这整个模组的技术详解都给了陈腾。
陈腾将原来超级快充技术详解的U盘拔出,把浸润式光刻模组技术详解的U盘插入。
打开里面的内容一看。
很好,陈腾基本上全都看不懂。
不过陈腾却忍不住笑出了声来。
这次啊,真的是赚大了!
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